Tamanho da fonte: 

Filmes antirreflexivos são fundamentais para um bom aproveitamento da energia solar em usinas heliotérmicas, pois aumentam a eficiência do sistema através da redução de perdas por reflexão. Dentre os materiais estudados na obtenção de superfícies antirreflexivas, o óxido de silício obtido através do processo sol-gel é o que apresenta melhores resultados de refletância[1-2] . Este trabalho trata da deposição de um revestimento antirreflexivo de sílica através do processo sol-gel na superfície de um substrato vítreo para sua aplicação em sistemas heliotérmicos. Os filmes foram confeccionados utilizando-se um equipamento dipcoating e passaram por sinterização à 425°C por 30 minutos. Na caracterização foram feitos ensaios de espectroscopia de fluorescência de raios-X (FRX), refletância difusa no UV-Vis, microscopia eletrônica de varredura (MEV) e medidas de molhabilidade. As propriedades mecânicas foram avaliadas baseadas nos testes de adesão da fita e dureza a lápis. Resultados dos ensaios de FRX confirmaram haver a deposição de sílica sobre o substrato. Foi obtida uma refletância difusa de 2,72% para o filme antirreflexivo. Imagens no MEV revelaram uma superfície uniforme e isenta de trincas. Medidas de molhabilidade mostraram haver o molhamento dos filmes pela água, caracterizando-os como hidrofílicos. Os filmes apresentaram uma adesão de 4B e dureza de 3H. Os filmes de sílica confeccionados apresentaram propriedades ópticas e mecânicas satisfatórias para sua aplicação solar.

Revestimento antirreflexivo. Filme fino de sílica. Sol-gel. Dip-coating. Energia solar.